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张伟
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作者:"(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟"
微纳尺度制造工程
:(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟
作者:
(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟
出版社:
电子工业出版社
出版时间:
20110001
ISBN:
978-7-121-13428-9
索书号:
TN405/27\3
分类号:
TN405
页数:
19, 640页
价格:
CNY83.00
丛书:
国外电子与通信教材系列
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累借次数:
本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术, 覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺, 包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发等。
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文献类型
中文图书
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出版社
电子工业出版社
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作者
(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟
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出版年
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