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作者:"(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟"
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    微纳尺度制造工程:(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟

    作者:(美) 斯蒂芬 A·坎贝尔, 严利人, 张伟 出版社:电子工业出版社 出版时间:20110001 ISBN:978-7-121-13428-9
    索书号:TN405/27\3 分类号:TN405 页数:19, 640页 价格:CNY83.00
    丛书:国外电子与通信教材系列
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    本书系统地介绍了微电子制造科学原理与工程技术, 覆盖了集成电路制造所涉及的所有基本单项工艺, 包括光刻、等离子体和反应离子刻蚀、离子注入、扩散、氧化、蒸发等。
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