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作者:"王蔚, 田丽, 任明远"
出版年:"20100001"
集成电路制造技术: 原理与工艺
:王蔚, 田丽, 任明远
作者：
王蔚, 田丽, 任明远
出版社：
电子工业出版社
出版时间：
20100001
ISBN：
978-7-121-11751-0
索书号：
TN405/24
分类号：
TN405
页数：
395页
价格：
CNY39.80
复本数：
在馆数：
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累借次数：
本书主要内容包括: 绪论 ; 单晶硅特性 ; 硅片的制备 ; 外延 ; 热氧化 ; 扩散 ; 离子注入 ; 化学气相淀积 ; 物理气相淀积 ; 光刻工艺 ; 光刻技术 ; 刻蚀技术等。
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中文图书
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出版社
电子工业出版社
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作者
王蔚, 田丽, 任明远
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