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作者:"李惠军"
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    现代集成电路制造工艺原理:李惠军

    作者:李惠军 出版社:山东大学出版社 出版时间:20070101 ISBN:978-7-5607-3331-9
    索书号:TN405/11 分类号:TN405 页数:295页 价格:CNY30.00
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    本书围绕当代集成电路制造的基础工艺,重点介绍所涉及的基本原理,并就当前集成电路芯片制造技术的最新发展作了较为详尽的阐述。
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    现代集成电路制造技术原理与实践:李惠军

    作者:李惠军 出版社:电子工业出版社 出版时间:20090101 ISBN:978-7-121-07753-1
    索书号:TN405/11A 分类号:TN405 页数:xiii, 435页 价格:CNY49.00
    丛书:电子信息与电气学科规划教材
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    本书介绍当代集成电路制造的基础工艺, 重点介绍基本原理和当前集成电路芯片制造技术的最新发展。本书共18章, 主要内容包括: 硅材料及衬底制备、外延生长工艺原理、氧化介质薄膜生长、半导体的高温掺杂、离子注入低温掺杂、薄膜汽相淀积工艺、图形光刻工艺原理、掩模制备工艺原理、集成电路工艺仿真、集成结构测试图形、电路管芯键合封装、集成电路性能测试、工艺过程的理化分析、管芯失效及可靠性、超大规模集成制造工艺、芯片产业质量管理、可制造性设计工具和可制造性设计理念等。
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