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作者:"王蔚, 田丽, 任明远"
集成电路制造技术: 原理与工艺
:王蔚, 田丽, 任明远
作者：
王蔚, 田丽, 任明远
出版社：
电子工业出版社
出版时间：
20100001
ISBN：
978-7-121-11751-0
索书号：
TN405/24
分类号：
TN405
页数：
395页
价格：
CNY39.80
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书主要内容包括: 绪论 ; 单晶硅特性 ; 硅片的制备 ; 外延 ; 热氧化 ; 扩散 ; 离子注入 ; 化学气相淀积 ; 物理气相淀积 ; 光刻工艺 ; 光刻技术 ; 刻蚀技术等。
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集成电路制造技术: 原理与工艺技术
:王蔚, 田丽, 任明远
作者：
王蔚, 田丽, 任明远
出版社：
电子工业出版社
出版时间：
20130101
ISBN：
978-7-121-20680-1
索书号：
TN405/24\x
分类号：
TN405
页数：
368页
价格：
CNY42.00
复本数：
在馆数：
累借天数：
累借次数：
本书是哈尔滨工业大学“国家集成电路人才培养基地”教学建设成果, 系统地介绍了硅集成电路制造当前普遍采用的工艺技术, 全书分5个单元。第1单元介绍硅衬底, 主要介绍硅单晶的结构特点, 单晶硅锭的拉制及硅片 (包含体硅片和外延硅片) 的制造工艺及相关理论。第2-5单元介绍硅芯片制造基本单项工艺 (氧化与掺杂、薄膜制备、光刻、工艺集成与封装测试) 的原理、方法、设备, 以及所依托的技术基础及发展趋势。附录A介绍以制作双极型晶体管为例的微电子生产实习, 双极型晶体管的全部工艺步骤与检测技术；附录B介绍工艺模拟知识和SUPREM软件。附录部分可帮助学生从理论走向生
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出版社
电子工业出版社
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作者
王蔚, 田丽, 任明远
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王蔚, 田丽, 任明远
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出版年
20100001
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